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1-14
控溫勻膠機(jī)在提升生產(chǎn)效率方面非常關(guān)鍵,尤其是在半導(dǎo)體、微電子、光伏、光學(xué)鍍膜等需要精密涂布的工藝中,它不僅僅是“保證質(zhì)量”,更是讓整條產(chǎn)線跑得更快、更穩(wěn)的重要設(shè)備。下面分幾個(gè)角度說明它的作用:一、提升涂布均勻性與一次成功率穩(wěn)定成膜質(zhì)量:通過精確控制基片與膠液的溫度,使膠液粘度保持在合適范圍,減少因溫度波動(dòng)導(dǎo)致的厚度不均、針孔、氣泡等問題。減少返工與報(bào)廢:一次成膜合格率高,意味著不需要頻繁停機(jī)重涂、補(bǔ)涂或報(bào)廢不良品,直接提升了單位時(shí)間的有效產(chǎn)出。二、縮短工藝周期,提升產(chǎn)能優(yōu)化干...
12-23
文章導(dǎo)讀浙江大學(xué)陳紅征團(tuán)隊(duì)在《Energy&EnvironmentalScience》上發(fā)表了題為“BimolecularAminesVaporPassivationforEfficientPerovskiteSolarCellsBasedonBlade-CoatedFAPbI3”的研究論文。他們創(chuàng)新性地提出了雙分子胺蒸氣鈍化(BAVP)技術(shù),成功實(shí)現(xiàn)了高效大面積鈣鈦礦電池的制備,還使電池在高溫條件下展現(xiàn)出優(yōu)異的穩(wěn)定性。使用雷博產(chǎn)品進(jìn)行大面積制備清洗后的ITO基板經(jīng)空氣烘箱干...
12-22
優(yōu)質(zhì)的切片始于精準(zhǔn)的修塊,每一個(gè)微米級(jí)的細(xì)節(jié)都決定著觀察結(jié)果的成敗。為此,雷博科儀隆重推出PMT100半薄修塊機(jī)——集精準(zhǔn)、高效、便捷于一身,專為電鏡制樣打造的得力助手。六大核心優(yōu)勢(shì)-LEBOSCIENCE-優(yōu)秀的切片效果-LEBOSCIENCE-從裝樣到精準(zhǔn)修塊的全過程-LEBOSCIENCE-一臺(tái)真正優(yōu)秀的儀器,不僅參數(shù)要漂亮,操作更要順手。下面這段操作實(shí)錄,將帶您親臨現(xiàn)場(chǎng)......PMT100半薄修塊機(jī)作為樹脂包埋塊的專業(yè)修塊儀器,是電鏡實(shí)驗(yàn)室重要的制樣裝備。它的存在...
12-15
蒸發(fā)鍍膜機(jī)是一種廣泛應(yīng)用于材料表面處理的設(shè)備,主要用于在基材表面形成薄膜。通過物理氣相沉積(PVD)技術(shù),能夠在真空環(huán)境中將固體材料轉(zhuǎn)化為氣相,然后再沉積到目標(biāo)表面,形成均勻的薄膜。這種工藝在許多領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用價(jià)值。一、工作原理蒸發(fā)鍍膜機(jī)的工作原理可以分為幾個(gè)主要步驟:1、真空環(huán)境的建立:首先需要在其工作腔體內(nèi)建立一個(gè)高真空環(huán)境。通過抽真空泵,降低腔體內(nèi)的氣壓,這樣可以減少氣體分子的碰撞,提高蒸發(fā)材料的沉積效率和薄膜質(zhì)量。2、材料的蒸發(fā):在真空環(huán)境中,將待鍍材料(如金屬、...
12-2
摘要烤膠機(jī)主要用于光刻膠的軟烘、硬烘等工藝,其傳統(tǒng)設(shè)計(jì)側(cè)重于工藝穩(wěn)定性和溫度均勻性,而對(duì)能耗和環(huán)境影響考量不足。隨著全球碳中和目標(biāo)的推進(jìn)和綠色制造的興起,烤膠機(jī)的節(jié)能與環(huán)保設(shè)計(jì)已從“錦上添花”變?yōu)椤氨剡x項(xiàng)”。本文深入分析了烤膠機(jī)在隔熱保溫、高效加熱、精準(zhǔn)溫控、余熱利用、材料選擇及工藝優(yōu)化等方面的節(jié)能設(shè)計(jì)策略,并探討了低能耗運(yùn)行、減排、化學(xué)品減量及全生命周期評(píng)估等環(huán)保技術(shù)路徑。研究表明,通過系統(tǒng)性的技術(shù)創(chuàng)新,現(xiàn)代烤膠機(jī)可實(shí)現(xiàn)高達(dá)30%-50%的能耗降低,并顯著減少碳足跡和化學(xué)品...
10-31
光刻機(jī)是制造芯片的核心設(shè)備,其工作原理類似于“投影曝光”。它通過一系列復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)和精密控制,將掩模版上的電路圖形精確地縮小并投影到涂有光刻膠的硅片上,使光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。經(jīng)過后續(xù)的刻蝕、離子注入等工藝,最終在硅片上形成所需的晶體管和電路結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)的技術(shù)水平直接決定了芯片的制程工藝和集成度,是衡量一個(gè)國家半導(dǎo)體制造業(yè)水平的關(guān)鍵標(biāo)志。今日,雷博科儀隆重推出MA200-BE光刻機(jī),以創(chuàng)新技術(shù)重塑精度邊界,致力于為先進(jìn)半導(dǎo)體制造提供更高效、更穩(wěn)定的國產(chǎn)化解決方案。即刻探索-邁...
10-28
一、引言在微電子制造、生物醫(yī)學(xué)、材料科學(xué)等前沿領(lǐng)域,??表面性能(如親水性、粘附性、潔凈度)??直接影響材料的后續(xù)加工質(zhì)量(如芯片封裝的焊料潤濕性、生物傳感器的細(xì)胞附著效率、納米涂層的結(jié)合強(qiáng)度)。傳統(tǒng)清洗方法(如化學(xué)溶劑浸泡、超聲清洗、機(jī)械打磨)雖能去除部分污染物,但存在??化學(xué)殘留、表面損傷、微觀結(jié)構(gòu)破壞??等局限,難以滿足高精度場(chǎng)景的需求。實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)(PlasmaCleaner)作為一種基于??低溫等離子體技術(shù)??的表面處理設(shè)備,通過激發(fā)氣體產(chǎn)生高活性粒子(如離子...
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