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程控烤膠機屬于高溫設備，安全操作既要防燙傷、火災，也要防電氣和氣體泄漏事故，可以從以下幾個方面重點注意：一、設備檢查與準備電源與接地檢查?確認電壓、相數(shù)符合設備銘牌要求，接地良好，無破損、裸露線纜。檢查插頭、插座、開關是否牢固，無燒焦、變形痕跡。工作環(huán)境要求?周圍應通風良好、無易燃物堆積，遠離酒精、溶劑、抹布、紙張等。操作區(qū)保持干燥，避免水濺到電氣部分。不要在設備正上方或旁邊放置其他物品，保持散熱空間。溫控系統(tǒng)與傳感器檢查?開機前查看溫控儀表顯示是否正常，有無報錯代碼。若有外...

光刻技術是半導體制造中的關鍵工藝之一，廣泛應用于集成電路、微機電系統(tǒng)(MEMS)、光電子器件及其他微納米結構的制備。實驗室光刻機作為這一技術的核心設備，其基本原理與工作流程對理解光刻技術至關重要。本文將詳細介紹實驗室光刻機的基本原理、主要組成部分及其工作流程。一、基本原理光刻是一種利用光學技術將圖形轉移到基材表面的工藝。其基本原理是通過光源照射光敏材料(光刻膠)，使其發(fā)生化學變化，從而形成所需的圖形。光刻過程主要包括以下幾個步驟：1、涂布光刻膠：在待加工的基材表面均勻涂布一層...

蒸發(fā)鍍膜技術是一種廣泛應用于材料科學和工業(yè)生產(chǎn)中的表面處理技術。它通過物質的蒸發(fā)和沉積過程，在基材表面形成薄膜，從而改變或改善材料的物理、化學和光學性質。本文將詳細探討蒸發(fā)鍍膜設備的工作原理、主要組成部分以及其在各個領域的應用。一、工作原理蒸發(fā)鍍膜是利用熱能或其他形式的能量將固態(tài)材料加熱至蒸發(fā)狀態(tài)，使其轉化為氣態(tài)，再在冷卻的基材表面凝結，形成薄膜的過程。該過程一般可以分為以下幾個步驟：1、材料加熱：在蒸發(fā)鍍膜設備中，待鍍材料(通常為金屬或合金)被加熱到其熔點以上，從而發(fā)生蒸發(fā)...

在現(xiàn)代制造業(yè)中，鍍膜技術作為一種重要的表面處理方法，被廣泛應用于電子、光學、汽車、航空航天等多個領域。隨著科技的發(fā)展和市場需求的不斷變化，多功能鍍膜設備逐漸成為提升生產(chǎn)效率的重要工具。一、工作原理多功能鍍膜設備是指集成了多種鍍膜技術于一體的設備，能夠實現(xiàn)不同種類的涂層沉積。通常采用物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)等技術。其工作原理能夠總結為以下幾個方面：1、氣相沉積：無論是PVD還是CVD，鍍膜過程均是在真空或低壓環(huán)境下進行的，通過將目標材料轉變?yōu)闅鈶B(tài)，然后再沉...

雷博科儀熱烈祝賀武漢大學柯維俊&方國家教授團隊使用我司多款薄膜制備產(chǎn)品在鈣鈦礦太陽能電池領域取得重要突破科研同款在本次研究中，武漢大學柯維俊&方國家教授團隊使用了我司生產(chǎn)的AC200-SE勻膠機.pdf、MS450鍍膜機.pdf、PF200-H鈣鈦礦專用涂膜機.pdf、PT13M-SE等離子清洗機.pdf。研究背景全鈣鈦礦疊層太陽能電池（TSCs）雖具備優(yōu)秀性能，但小面積與大面積（1cm2）器件間的效率差距嚴重阻礙其商業(yè)化進程。研究亮點晶體修飾劑創(chuàng)新：吡拉西坦通過雙重作用機制...

傳統(tǒng)設備在高速旋轉涂布時，容易出現(xiàn)膜厚不均、熱烘溫度波動大等問題。雷博科儀勻膠機腔體采用特殊設計，在納米壓印工藝上能夠保持優(yōu)異的均勻性：A.勻膠均勻性：8寸晶圓，BKM數(shù)據(jù)可達±1.1%。4寸晶圓BKM數(shù)據(jù)：片內±0.49%，片間±0.55%。6寸晶圓BKM數(shù)據(jù)：片內±0.76%，片間±0.91%。8寸晶圓BKM數(shù)據(jù)：片內±0.92%，片間±1.10%。B.面板均勻性：8/12寸...

中科院化學所X雷博科儀喜相較于旋涂法，刮涂法制備的鈣鈦礦薄膜通常形貌較差，影響太陽能模塊（PSM）的效率和穩(wěn)定性。為此，中科院化學所團隊在鈣鈦礦前驅體中引入聚合物添加劑，定制橢圓膠體結構（在實驗中使用了雷博科儀的PF200原位刮涂設備），成果發(fā)表于《AdvancedMaterials》。01supportinginformationPF200(原位刮涂)設備：一種可以用于同步輻射原位觀測平臺的微型涂膜器，推桿可吸附硅片或其他形式刀頭進行涂膜，涂膜高度可調。02研究內容a)鈣鈦...