勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動(dòng)迅速，旋涂均勻，操作簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)緊湊實(shí)用，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué)，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO導(dǎo)電玻璃等工藝制版表面涂覆等。主要用于液體，膠體的成膜性能試驗(yàn)，表面涂覆。
 

勻膠機(jī)的產(chǎn)品特點(diǎn)：

 

　　1、采用閉環(huán)控制伺服電機(jī)，數(shù)字式增速信號(hào)反饋，速勻準(zhǔn)確，壽命長(zhǎng)，保證勻膠均勻。
 

　　2、5寸全彩觸摸屏，智能程序化可編程操控顯示，標(biāo)配10個(gè)勻膠梯度階段(速度和時(shí)間梯度設(shè)置)，可選配10個(gè)可編程程序，每個(gè)程序下可設(shè)置10個(gè)勻膠梯度階段，多100個(gè)階段。
 

　　3、內(nèi)置水平校準(zhǔn)裝置，**限度的保證旋涂均勻，可對(duì)大小不同規(guī)格的基片進(jìn)行旋涂。
 

　　4、多重安全保護(hù)。
 

　　5、電磁安全開關(guān)，蓋子打開卡盤停止，保證安全。
 

　　6、蓋子自鎖功能，防止飛片蓋開傷人。
 

　　7、雙重安全上蓋，聚四氟嵌鑲鋼化玻璃，避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人，限度保證實(shí)驗(yàn)人員安全。
 

　　8、一機(jī)兩用，根據(jù)不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂模式。
 

　　9、不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體，PTFE旋涂腔體，聚丙烯(NPP-H)旋涂托盤，PTFE嵌鑲鋼化玻璃上蓋，耐酸堿防腐蝕，保證儀器在苛刻條件下仍能正常運(yùn)行。
 

　　10、適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs，GaN，InP等多種材料。
 

　　勻膠機(jī)工作原理和主要構(gòu)成：
 

　　將各類膠液滴注于高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴在基片上的膠液通過離心力在基片上均勻地涂覆的設(shè)備，被叫做勻膠機(jī)。溶膠的黏度以及勻膠機(jī)的轉(zhuǎn)速對(duì)于膜的厚度起到?jīng)Q定性作用。
 

　　勻膠機(jī)工作原理：
 

　　勻膠機(jī)在MEMS微加工,生物,材料等領(lǐng)域得到了非常廣泛的應(yīng)用。其能夠用來(lái)對(duì)厚度比10納米還要小的薄膜進(jìn)行制備，也常常在1-100微米左右厚光刻膠沉積層的光刻工藝中得到應(yīng)用。
 

　　半導(dǎo)體硅片,載玻片,晶片,基片,ITO導(dǎo)電玻璃等均能夠用許多平面基底材料來(lái)涂覆。
 

　　利用負(fù)在片托上產(chǎn)生，在片托上吸附需要旋涂的基底材料，在基底材料的表面滴注膠液，利用對(duì)電機(jī)的旋轉(zhuǎn)速度的精確調(diào)節(jié)從而來(lái)使離心力大小得以改變，與此同時(shí)利用滴膠裝置來(lái)對(duì)膠液的流量進(jìn)行控制，從而使得制備薄膜所需的厚度達(dá)到。除此以外旋涂時(shí)間,膠液的粘度,涂覆的溫度和濕度等環(huán)境因素也會(huì)對(duì)薄膜厚度產(chǎn)生影響。
 

　　勻膠機(jī)能夠涂的膜厚能夠達(dá)到10納米-10微米的范圍，均勻度能夠達(dá)到1%。
 

　　勻膠機(jī)主要構(gòu)成
 

　　控制器和甩膠處理腔體兩大部分通常包含于該設(shè)備內(nèi)。通常預(yù)制的PLC程序段存在于控制器內(nèi)，市面上常見的設(shè)備有著較大的差異。簡(jiǎn)易控制器利用簡(jiǎn)單的電控調(diào)速技術(shù)將旋轉(zhuǎn)速度簡(jiǎn)單分成2-3個(gè)檔位，低檔用來(lái)將膠液甩開，而高dang用來(lái)均勻涂布。復(fù)雜控制器設(shè)定20個(gè)程序段來(lái)對(duì)不同材料的制備過程進(jìn)行存儲(chǔ)。